第519章 顶级制程科学家 (第2/3页)
引起埋入扩散层的氧化膜厚度中间薄周边厚，薄的部分隔离差，造成中间漏电。”
台下工程师们有的表情恍然大悟，有的则是兴奋地点头，表示不出所料，胡一亭的判断和他们一样。
胡一亭继续道：“这个问题我不展开细说，前段时间我不在，做坏了情有可原，反正总算还锻炼了队伍，提高了大家攻关克难的经验，我认为失败也是好事，给了我们总结的经验嘛，要是不出事，我倒觉不好，那样一来大家反而什么都学不到。”
胡一亭继续道：“之前经过奚所与长沙光电设备研究所也就是电科48所紧急协调，他们立刻派了团队，并带来了他们目前正在研发中的新型离子注入机的改良版真空部件，目前正在对我们的旧型号设备进行升级改装，从他们给出的新设备真空参数来看，改装升级以后应该就能马上解决问题，过几天第二批工程流片出来以后，大家对着电镜图片就能看出区别了。”
在座的工程师们有的心里还是悬着，担心这次改装升级要是依然解决不了问题可怎么办呢，但大多数人都对胡一亭心服口服，觉得他能一眼看出问题的关键已经不简单，而又能够立刻寻找出解决问题的答案，这就更难了，这得是多么专业多么老道的经验啊！这哪是一个18岁的青年！简直像一只在制程工艺研发里泡了多年的狐狸精。
胡一亭不管大家怎么想，继续按动鼠标，把投影仪上的图片换了一张，继续讲解道：“这张图很经典啊，没想到我这辈子还能看见这个形态，大家记住，根据我十几年的制程经验判断，这是栅邬化硅附着不良的典型特征，是多晶硅生长工艺的问题，解决方案是改进栅邬化硅生长前的清洗工艺，从而消除附着不良的现象。”
胡一亭说完，大家先是一副原来如此的表情，接下来都愣住了，随即会议室里爆发出一阵不大的笑声，大家都面带微笑，以为胡一亭在开玩笑。
胡一亭也是一愣，这才反应过来自己口误了，赶紧解嘲：“我开个玩笑，大家都知道我才18岁嘛，哈哈……哈哈……哈……”他笑的尴尬，越解释越觉得像个冷笑话。
旁边坐着的奚龙山笑的两眼眯成一条线，心说胡一亭这冷笑话大概是想嘲讽那些没看出关键点的人吧，说实话自己虽然看出问题来了，但真的不能第一时间确定原因是出在栅邬化硅生长前的清洗工艺上，只是有所怀疑罢了，
（本章未完，请点击下一页继续阅读）